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用于电阻抗断层成像的传感器装置、电阻抗断层成像装置和电阻抗断层成像方法
专利权人:
斯威斯托姆公开股份有限公司
发明人:
约瑟夫克斯·X·布伦纳,帕斯卡尔·奥利维尔·加格罗,尼古拉斯·罗比塔耶
申请号:
CN201180048483.7
公开号:
CN103153180B
申请日:
2011.10.04
申请国别(地区):
CN
年份:
2015
代理人:
摘要:
一种用于EIT成像的传感器装置,包括用于测量阻抗分布的电极阵列,其特征在于,用于确定测试者的空间方向的至少一个传感器连接至电极阵列。一种EIT成像装置,可连接到用于确定测试者的空间方向的传感器,并可选地可连接到用于采集电和/或声活动信息的传感器和/或用于采集扩张信息的传感器,其特征在于,连接或集成计算装置用于基于空间数据调整阻抗数据,其中空间数据描述测试对象的空间方向。一种用于测量阻抗分布和调整所述的测量的阻抗分布的EIT成像方法,包括下列步骤:通过使用包括电机阵列的阻抗分布测量装置测量阻抗分布,和将测量的阻抗分布转换成EIT图像,其特征在于,重力影响通过测量测试对象的空间方向进行确定,和测量的阻抗分布的值根据所述空间方向进行调整,以消除重力影响。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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