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제립화 실리카 입자, 복합 분체, 그리고 이들의 제조 방법 및 이들을 함유하는 화장료
专利权人:
发明人:
마스부치 유지
申请号:
KR1020097022397
公开号:
KR1015553450000B1
申请日:
2008.03.26
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
in particular an object of the present invention to provide a riphwa silica particles to give excellent feel to the case of applying to the skin . The riphwa the silica particles, the thickness of primary particles of 0.001 to 0.1 mu m, specific surface area of the silane olgi (SiOH) is formed by from 20 to 70 [mu] mol / m & lt 2 & gt of flake silica as a component, an average particle diameter of 1 to 50 , and is characterized in that the compressive strength of 1 to 4 MPa.The riphwa silica particles, scale-shaped silica, silanol groups, the compressive strength특히 피부에 적용했을 경우에 우수한 사용감을 주는 제립화 실리카 입자를 제공하는 것을 목적으로 한다. 이 제립화 실리카 입자는, 1차 입자의 두께가 0.001 내지 0.1㎛, 비표면적당의 실란올기(SiOH)가 20 내지 70 μmol/㎡인 비늘 조각 형상 실리카를 구성요소로 해서 형성된, 평균 입자 직경이 1 내지 50㎛이며, 압축 강도가 1 내지 4 ㎫인 것을 특징으로 한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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