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新規化合物、化粧品用途および薬用化粧品用途におけるその使用、および該化合物を含む組成物
专利权人:
ルカス マイアー コズメティクス カナダ インク.
发明人:
オコー,ミシェル,ロイング,エステル,ブドー,フィリップ
申请号:
JP2010513593
公开号:
JP5570978B2
申请日:
2008.06.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
Chemical compound and that racemic chemical compound which are displayed with formula (i), at least from the group which consists of enantiomer, and diastereoisomer 1 where it is chosen kinds or that salt. R A Gly His B R (i)However, in formula: Each of A and B is denaturalized mutually independently, L ricin residue, D ricin residue, and the L or D ricin residue (however the NH2 basis of the side chain (i) hydrogen substitution, (ii) acetylation, (iii) benzoylation or to (iv) parumitoiru by being converted) from the group which consists of to be 1 kinds which are chosen Gly is the glycine residue His is the L or D histidine residue As for R formula CH3 - (CH2) n CO (however n = 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8) with displaying It is the basis which is displayed with Rha formula (ii): N (Z) (Z) (ii)However, in formula: Z and Zno each the hydrogen atom, the methyl group and the ethyl group, is phenyl group, the hexyl basis, the decyl basis or the hexa- decyl basis.式(I)で表される化合物、そのラセミ化合物、鏡像異性体、およびジアステレオ異性体からなる群より選ばれる少なくとも1種またはその塩。R-A-Gly-His-B-R (I)但し、式中:AとBの各々は、相互に独立的に、L-リシン残基、D-リシン残基、およびL-またはD-リシン残基(但し側鎖のNH2基が(i)水素置換、(ii)アセチル化、(iii)ベンゾイル化または(iv)パルミトイル化されることにより変性されている)からなる群より選ばれる1種であり;Glyはグリシン残基であり;HisはL-またはD-ヒスチジン残基であり;Rは式 CH3-(CH2)n-CO-(但し n = 2、3、4、5、6、7または8)で表されR’は式(II)で表される基である:N(Z)(Z) (II)但し、式中:ZとZ’の各々は水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、ヘキシル基、デシル基またはヘキサデシル基である。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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