多孔二氧化硅系粒子、其制造方法及配合其的化妆料
- 专利权人:
- 日挥触媒化成株式会社
- 发明人:
- 榎本直幸,渡边慧,三好康敬
- 申请号：
- CN201580031859.1
- 公开号：
- CN106660812A
- 申请日:
- 2015.06.30
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的目的在于，提供比表面积小且微孔容积大的多孔二氧化硅系粒子和其制造方法，以及提供配合具备此种特性的多孔二氧化硅系粒子作为触感改良材料的化妆料。本发明的多孔二氧化硅系粒子由二氧化硅系微粒的稀疏的填充物结构构成，平均粒径为0.5～25μm，利用BET法求得的比表面积为5～60m2/cm3，微孔容积为0.35～2.0ml/g。进而，多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布(X轴：微孔径，Y轴：以微孔径对微孔容积进行微分得到的值)中的最频微孔径(Dm)为100＜Dm＜4000nm。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
