The present invention is directed to a gas scrubbing process for removing at least one odorous vaporous compound from a gas stream generated by a rendering process or at least reducing the concentration of that odorous vaporous compound. In one embodiment, a series of two gas/liquid contactors is used, each having a different liquid scrubbing solution, with one scrubbing solution controlled at an alkaline pH and the other scrubbing solution controlled at an acidic pH. In another embodiment, the pH of the respective scrubbing solutions in each of the two gas/liquid contactors is reversed.Cette invention concerne un procédé de lavage de gaz permettant déliminer au moins un composé odorant sous forme de vapeur dun flux gazeux généré par un procédé de récupération ou au moins de réduire la concentration dudit composé odorant sous forme de vapeur. Dans un mode de réalisation, une série de deux contacteurs gaz/liquide est utilisée, chacun contenant une solution de lavage liquide différente, une desdites solutions de lavage étant ajustée à un pH alcalin, et lautre à un pH acide. Dans un mode de réalisation, le pH des solutions de lavage respectives dans chacun des deux contacteurs gaz/liquide est inversé.
