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噻唑化合物及其用途
- 专利权人:
- 大塚制药株式会社
- 发明人:
- 竹村勋,渡边研二,大岛邦生,伊藤展明,春田淳平,日山英孝,千寻正利,川染秀树,坂本阳子,石山广信,住田卓美,藤田和彦,北垣英树
- 申请号：
- CN200580015892.1
- 公开号：
- CN1953968B
- 申请日:
- 2005.05.16
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明目的为提供对PDE4具有特异性抑制作用的通式(1)表示的新型噻唑化合物、其旋光体及其盐。式中，R1表示二C1～6烷氧基苯基，R2表示下述(a)～(t)中的任一种基团：(a)苯基、(b)萘基、(c)吡啶基、(d)呋喃基、(e)噻吩基、(f)异噁唑基、(g)噻唑基、(h)吡咯基、(i)咪唑基、(j)四唑基、(k)吡嗪基、(1)噻吩并噻吩基、(m)苯并噻吩基、(n)吲哚基、(o)苯并咪唑基、(p)吲唑基、(q)喹啉基、(r)1，2，3，4-四氢喹啉基、(s)喹喔啉基及(t)1，3-苯并二氧杂环戊烯基。A表示下述(i)～(vi)中的任一种基团：(i)基团-CO-B-(B表示C1～6亚烷基)；(ii)基团-CO-Ba-(Ba表示C2～6亚烯基)；(iii)基团-CH(OH)-B-；(iv)基团-COCH(COOR3)-Bb-(R3表示C1～6烷基，Bb表示C1～6亚烷基)；及(v)基团-Bc-(Bc表示C2～6亚烷基)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
