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Particle irradiation system
专利权人:
HITACHI LTD;株式会社日立製作所
发明人:
針金 亮斗,藤澤 達哉,山下 勉,渡辺 守,HARIGANE RYOTO,FUJISAWA TATSUYA,YAMASHITA TSUTOMU,WATANABE MAMORU
申请号:
JP2018205062
公开号:
JP2020069085A
申请日:
2018.10.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Problem to be solved: to provide a particle irradiation system in which the weight balance of the rotating portion is improved.Particle beam irradiation systemA stand on which irradiation objects are placedLinear accelerator to generate charged particle beam in straight lineAn accelerator that accelerates charged particle beams generated by the linear acceleratorA transport device for transporting charged particle beams emitted from the acceleratorAn irradiation apparatus for irradiating a charged particle beam transported by said transport deviceThe transport device and the irradiation device are installed.A gantry rotating the irradiation device around the object of irradiationAndThe accelerator isAgainst the rotating axis of the gantryThe center of the accelerator is located opposite the transport deviceIt is installed in the gantry.Diagram【課題】回転する部分の重量バランスを改善した粒子線照射システムを提供する。【解決手段】粒子線照射システムは、照射対象が載置される載置台と、直線経路で荷電粒子ビームを発生させる直線加速器と、前記直線加速器で発生した荷電粒子ビームを加速する加速器と、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを輸送する輸送装置と、前記輸送装置により輸送された荷電粒子ビームを照射する照射装置と、前記輸送装置と前記照射装置とが設置され、前記照射装置を前記照射対象の周りで回転させるガントリと、を有し、前記加速器が、前記ガントリの回転軸に対して、前記輸送装置とは反対側に前記加速器の中心が位置するように、前記ガントリに設置されている。【選択図】図4
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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