一种高温高湿条件下佛甲草栽培混合基质
- 专利权人:
- 广州市东篱环境艺术有限公司
- 发明人:
- 何一王,何茜莹,徐玲,汤聪
- 申请号：
- CN201210030116.0
- 公开号：
- CN102577915A
- 申请日:
- 2012.02.11
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 周克佑
- 摘要：
- 一种高温高湿条件下适合佛甲草生长的栽培混合基质，本发明旨在公开一种在高温高湿条件下，佛甲草仍可以较正常生长的栽培混合基质，此栽培混合基质成本低、环保卫生，排水和持水能力均衡协调，在高温高湿条件下仍能适合佛甲草的生长。栽培混合基质的主要构成为园林废弃物、珍珠岩、椰糠，按照园林废弃物：珍珠岩：椰糠=8：1：1的比例进行混合。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
