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上皮再形成式創傷用医薬材料およびシステム
专利权人:
ケーシーアイ ライセンシング インコーポレイテッド
发明人:
ロック,クリストファー,ブライアン,ロビンソン,ティモシー,マーク,クルサード,リチャード,ダニエル,ジョン
申请号:
JP2012526840
公开号:
JP2013502983A
申请日:
2010.08.17
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
Methods, apparatuses, and systems for promoting re-epithelialization as an aspect of wound healing are presented. A re-epithelialization dressing for use with reduced pressure has a moist tissue-interface layer, a manifold member, and a sealing member. The moist tissue-interface layer has a plurality of apertures. The moist tissue-interface layer is for disposing adjacent to the wound and provides a moisture balance (i.e., provides moisture when the wound is dry and receives moisture when the wound site is substantially wet). The reduced pressure, apertures, and moist tissue-interface layer help with liquid management and otherwise promote re-epithelialization. Other systems, apparatuses, and methods are presented.創傷治療の一態様として上皮再形成を促進する方法、装置、およびシステムが提示される。減圧を用いる上皮再形成用医療材料は、湿性組織界面層と、マニホルド部材と、密閉部材とを具える。湿性組織界面層は複数の孔を具える。湿性組織界面層は創傷に隣接は位置され、水分バランスを提供する(すなわち、創傷の乾燥時には水分を提供し、創傷がかなり湿っているときには水分を除去する)。減圧、孔、および湿性組織界面層は、液体管理を補助し、そうでなくても上皮再形成を促進する。他のシステム、装置、および方法も開示されている。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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