Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Korrektur einer Signalphase bei der Aufnahme von MR Signalen eines Untersuchungsobjekts in einem Schichtmultiplexverfahren, bei dem MR Signale aus zumindest 2 unterschiedlichen Schichten des Untersuchungsobjekts gleichzeitig bei der Aufnahme der MR Signale detektiert werden, mit den folgenden Schritten:– Bestimmen einer linearen Korrekturphase in Schichtselektionsrichtung für jede der zumindest 2 Schichten,– Einstrahlen, in jede der zumindest 2 unterschiedlichen Schichten, eines HF Anregungspulses mit einer schichtspezifischen Frequenz,– Schalten eines Schichtselektionsgradienten während einer Schichtselektionszeitspanne, während der die verschiedenen HF Anregungspulse in die zumindest 2 unterschiedlichen Schichten eingestrahlt werden, wobei die Schichtselektionszeitspanne einen Zeitmittelpunkt in der Mitte der Schichtselektionszeitspanne aufweist, wobei sich die verschiedenen HF Anregungspulse für die zumindest 2 unterschiedlichen Schichten zeitlich überlappen,– Bestimmen, für jeden der HF Anregungspulse, eines zeitlichen Versatzes des HF Anregungspulses relativ zum Zeitmittelpunkt derart, dass auf die Magnetisierung der jeweiligen Schicht ein schichtspezifisches Korrekturgradientenmoment in Schichtselektionsrichtung einwirkt, das der linearen Korrekturphase der jeweiligen Schicht entspricht.The present invention relates to a process for the correction of a signal phase in the absorption of mr signals of an object to be examined in a layer multiplex method, in the mr signals from at least 2 different layers of the examination subject, at the same time, during the absorption of the mr signals are detected with the following steps:– Determining a linear correction in layer selection direction for each of the at least 2 layers,– Radiation, in each of the at least 2 different layers, of a hf excitation pulse with a layer of specific frequency,– Switching of a slice selection gradient during a layer selection time period during w
