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電離放射が堆積するロードを計算するための方法
专利权人:
コミシリア ア レネルジ アトミック エ オ エナジーズ オルタネティヴズ
发明人:
ブランパイン、バティステ,メルシア、ダビット,バルセ、ジャン
申请号:
JP2012520012
公开号:
JP2013526883A
申请日:
2010.07.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
For example, a method for calculating the load of ionizing radiation used by the treatment apparatus of the radiotherapy is deposited invention relates to (1). The method of the present invention, comprises the first step of the one (2) at least to compute the function of the load distribution in the mesh of the mesh phantom. The method of the present invention includes a second step of calculating the load to be deposited in the voxel assembly (3), the value of the deposition load on one voxel is, by a function of the load distribution of the original mesh to the voxel belongs given. The present invention may be used for radiotherapy particular intensity modulation.本発明は、例えば放射線治療の治療装置によって使用される電離放射が堆積するロードを計算するための方法(1)に関する。本発明の方法は、メッシュファントムのメッシュ内のロード分布の関数を計算する少なくとも1つの第1のステップ(2)を含む。本発明の方法は、ボクセルアセンブリ内に堆積されるロードを計算する第2のステップ(3)を含み、1つのボクセルに関する堆積ロードの値は、そのボクセルが属するメッシュに独自のロード分布の関数によって与えられる。本発明は、とりわけ強度変調による放射線治療に使用することができる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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