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一种用于近红外二区成像的双给体共轭聚合物及应用
专利权人:
桂林理工大学
发明人:
刘远立,舒琦,段炼,邓卫星,徐旭
申请号:
CN202111172322.0
公开号:
CN113861391A
申请日:
2021.10.08
申请国别(地区):
CN
年份:
2021
代理人:
摘要:
本发明公开了一种用于近红外二区成像的双给体共轭聚合物。分子结构中含有两种不同结构的电子给体单元,和一种电子受体单元。共轭聚合物的光学性质可根据两种电子给体在分子结构中的比例进行调整。此类双给体共轭聚合物吸收波长均大于1100nm,可利用1064nm光源进行成像和治疗,可以实现近红外二区荧光成像,并能有效抑制肿瘤细胞的生长。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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