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引流入渗沉淀种植坑
专利权人:
张笑寒
发明人:
张笑寒,张孟仁,姚忠臣,薛少锋,薛雯雯,山晓伟,房黎
申请号:
CN201420278004.1
公开号:
CN204132090U
申请日:
2014.05.28
申请国别(地区):
中国
年份:
2015
代理人:
智宏亮
摘要:
本实用新型公开的引流入渗沉淀种植坑,包括沉淀种植坑(3)、引流入渗孔(4),所述的沉淀种植坑(3)是在陡坡(2)为25—60度的山地表面开挖形成,沉淀种植坑(3)的外侧用于种植树木(1)、内侧往山体内打一引流入渗孔(4)。本实用新型通过在陡坡土地上对雨水实施聚集入渗,高效贮存,延时利用的“非灌溉”增强树木抗旱能力的方法,达到避免形成水土流失,使树木获得高成活率、高生长量所需的水环境的目的。适用于地面坡度陡峭的山地上种植树木,特别是在25—60度的陡坡地上。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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