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ニキビ改善剤
专利权人:
花王株式会社
发明人:
佐々木 三普,大窪 幸治
申请号:
JP2008316476
公开号:
JP5465871B2
申请日:
2008.12.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition which has good safety and excels in acne prevention and treatment effect.SOLUTION: The acne treatment agent contains a sphingosines (A) represented by formula (1) (wherein R1 is a 4-30C hydrocarbon group which may be substituted with a hydroxyl group, a carbonyl group or an amino group Y is a methylene group, a methine group or oxygen X1, X2, and X3 are each hydrogen, a hydroxyl group or an acetoxy group X4 is hydrogen, an acetyl group or a glyceryl group or forms an oxo group together with the adjacent oxygen R2 and R3 are each hydrogen, a hydroxyl group, a hydroxymethyl group or an acetoxymethyl group (a) number of R are hydrogen, an amidino group or a hydrocarbon group having 1-8 carbon atoms in total which may have a substitutent selected from a hydroxyl group, a hydroxyalkoxy group, an alkoxy group and an acetoxy group and a is 2), isopropylmethylphenol (B), a polyol (C), and water (D) at a mass ratio of component (B) to component (A) of 0<(B)/(A)&le5.COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】安定性が良好で、にきび予防及び治療効果に優れた組成物を提供すること。【解決手段】(A)一般式(1)で表わされるスフィンゴシン類【化1】(R1はヒドロキシル基、カルボニル基又はアミノ基が置換していてもよい、炭素数4~30の炭化水素基;Yはメチレン基、メチン基又は酸素原子;X1、X2、及びX3は水素原子、ヒドロキシル基又はアセトキシ基、X4は水素原子、アセチル基又はグリセリル基か、隣接する酸素原子と一緒になってオキソ基を形成;R2及びR3は水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロキシメチル基又はアセトキシメチル基;a個のRは水素原子又はアミジノ基か、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルコキシ基、アルコキシ基及びアセトキシ基から選ばれる置換基を有していてもよい総炭素数1~8の炭化水素基;aは2)、(B)イソプロピルメチルフェノール、(C)ポリオール、(D)水を含有し、成分(A)と成分(B)の質量割合が、0<(B)/(A)≦5であるニキビ改善剤。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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