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Over-production of dihomo-gamma-linolenic acid by a mutant strain of parietochloris incisa
专利权人:
BEN GURION UNIVERSITY OF THE NEGEV RESEARCH AND DEVELOPMENT AUTHORITY
发明人:
申请号:
IL20356910
公开号:
IL203569A
申请日:
2010.01.28
申请国别(地区):
IL
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention is primarily directed to a mutant strain of Parietochloris incisa, characterized in comprising a substantially reduced intracellular concentration of arachidonic acid (AA) together with a substantially increased intracellular concentration of dihomo-gamma-linolenic acid 20:3w6 (DGLA).La présente invention porte principalement sur une souche mutante de Parietochloris incisa, caractérisée par le fait quelle comprend une concentration intracellulaire sensiblement réduite dacide arachidonique (AA) conjointement avec une concentration intracellulaire sensiblement accrue dacide dihomo-gamma-linolénique 20:3w6 (DGLA).
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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