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一种用做疝气补片的镂空型膜片及其制备方法
专利权人:
东华大学
发明人:
杨庆,郯志清,沈新元,吴文华,吉亚丽,张佩华,王文祖
申请号:
CN201210402250.9
公开号:
CN102920528A
申请日:
2012.10.19
申请国别(地区):
CN
年份:
2013
代理人:
摘要:
本发明公开了一种用做疝气补片的镂空型膜片及其制备方法,所述的用做疝气补片的镂空型膜片为带有孔洞的高分子薄膜,所述带有孔洞的高分子薄膜用做疝气补片;所述的高分子薄膜厚度为0.05~1.0mm。本发明的制备方法包括:(1)将高分子材料通过熔融流延方法制成初生薄膜;(2)对初生薄膜进行双向拉伸;(3)采用机器雕刻方法在薄膜表面打出孔洞;(4)然后进行平整热定型处理,即得所述用做疝气补片的镂空型膜片。本发明的用于疝气补片的新材料具有较好的力学性能以及生物相容性。这种用于疝气补片的单层镂空型膜片制备方法简单,适合于工业化生产。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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