PURPOSE: A cosmetic composition with plus zeta potential is provided to ensure excellent absorption of sweat and sebum and to improve makeup persistence. CONSTITUTION: A cosmetic composition containing a cosmetic material with plus zeta potential contains a cosmetic material having plus zeta potential containing: a mixture containing 0.01-99.00% of purified water/cornstarch/polyquarternium-10/antiseptic； a mixture containing 0.01-99.00% of purified water/cornstarch/polyquarternium-10/hydrogenated polydecene/caprylic glycol/antiseptic； a mixture containing 0.01-99.00% of talc/cornstarch/polyquarternium-10； or a mixture containing 0.01-30.00% of hydrogenated polyisobutene/hydrogenated polydecene/hydrogenated C6-14 olefin polymer. The cosmetic composition is manufactured in the form of foundation, powder, and mascara.본 발명은 플러스 제타전위를 갖는 화장료를 함유하는 화장료 조성물로서, 총 조성물 중량의 0.01-99.00%의 정제수/콘스타치/ 폴리쿼터늄-10/방부제로 이루어진 혼합물, 조성물 중량의 0.01-99.00%의 정제수/콘스타치/ 폴리쿼터늄-10/하이드로젠네이티드 폴리데신/카프릴글리콜/방부제로 이루어진 혼합물, 조성물 총 중량의 0.01-99.00%의 털크/콘스타치/폴리쿼터늄-10로 이루어진 혼합물과 조성물 총 중량의 0.01-30.00%의 하이드로젠네이티드 폴리이소부텐/하이드로젠네이티드 폴리데신/하이드로젠네이티드 C6-14 올레핀 폴리머로 이루어진 혼합물들로부터 선택된 1종 또는 2종이상의 혼합물들로 이루어진 플러스 제타전위를 갖는 화장료를 함유함을 특징으로 하는 화장료 조성물에 관한 것이다.
