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基板付蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクの製造方法および基板付蒸着マスク
专利权人:
大日本印刷株式会社
发明人:
池 永 知加雄,関 謙太朗
申请号:
JP20150190264
公开号:
JP2017066440(A)
申请日:
2015.09.28
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
【課題】蒸着マスクに対して適切な値の張力を付与することができ、めっき処理を効率的に、高精度に、かつ安定的に生産実施することができる基板付蒸着マスク装置の製造方法を提供する。【解決手段】基板付蒸着マスク装置の製造方法は、ガラス製基板1上にめっき処理用のレジストパターン3であって、複数の蒸着マスクに対応する多面付けされた単位レジストパターン3Bを含むレジストパターン3を形成する工程と、ガラス製基板1を複数段、複数列の単位レジストパターン3Bに切断する工程と、単位レジストパターン3Bをマスクとしてめっき処理により蒸着マスク2を形成する工程とを備える。【選択図】図5
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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