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一种深沟高垄全覆膜栽培方法
专利权人:
随县马铃薯专业技术协会
发明人:
刘克文,黄波,张红军,许瑶,何芳,周泽民,杨运志,刘祎,余功亮,程盛
申请号:
CN202010919819.3
公开号:
CN112021117A
申请日:
2020.09.04
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明属于种植技术领域,公开了一种深沟高垄全覆膜栽培方法,包括:“区域选择、品种选用、配方施肥、规范播种、科学管理、适时收获”六个环节;重点是通过地膜覆盖,改革制垄模式(单行、高垄、深沟、全覆盖)。1南方生长期短,推广小垄单行(垄宽70cm左右),提高植株空间分布均匀度,早封行、提高光能利用率。2制作高垄(垄高30‑35cm),增加耕作层厚度,提高土壤通透性,改善根系生长环境,使马铃薯结薯层处于沟底之上,排除雨天浸泡现象。3沟深、沟窄、沟直、沟底平整,排水畅通,降低发病率。4地膜全覆盖,可以增温,保墒保肥,提高除草效果。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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