您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

LOW pH ORAL CARE COMPOSITIONS CONTAINING AMORPHOUS SILICA
专利权人:
DZE PROKTER EHND GEHMBL KOMPANI
发明人:
BEhJG Arif Ali (US),БЭЙГ Ариф Али (US),DEKNER Dzhordzh Ehndel' (US),ДЕКНЕР Джордж Эндель (US),Kh'JuZ Iehjn Allan (US),ХЬЮЗ Иэйн Аллан (US),BEHJG ARIF ALI,БЭЙГ Ариф Али,DEKNER DZHORDZH EHNDEL,ДЕКНЕР Джордж Эндель,KHJUZ IEHJN ALLAN,ХЬЮЗ Иэйн Аллан
申请号:
RU2011117011/15
公开号:
RU0002487699C2
申请日:
2009.11.24
申请国别(地区):
RU
年份:
2013
代理人:
摘要:
FIELD: medicine.SUBSTANCE: group of inventions concerns oral care compositions. The presented compositions contain an amorphous silica abrasive having a particle size characterised by the fact that 90% of the particles have a particle size less than 50 mcm, and a fluoride source. One version of the composition also contains stannous ions and peroxide, and pH of the composition is less than 5. The use of amorphous silica with these characteristics provides improved fluoride stability and other active agents in the oral care composition. The compositions with pH lower than usual, e.g. falling within the range of 3.5 to 5 is allowed to be used.EFFECT: using the presented compositions enables the effective and safe oral cleansing.11 cl, 2 ex, 30 dwgГруппа изобретений касается композиций для ухода за полостью рта. Предлагаемые композиции содержат абразив на основе аморфного кварца, имеющий размер частиц, характеризующийся тем, что 90% частиц имеют размер частиц менее 50 микрон, и источник фторида. Один из вариантов композиции содержит также ионы двухвалентного олова и пероксид, при этом значение рН композиции составляет менее чем 5. Использование аморфного кварца с указанными характеристиками обеспечивает улучшенную стабильность фторида и других активных агентов в композиции для ухода за полостью рта. При этом возможно использование композиций с более низким, чем обычно, значением рН, например в диапазоне от 3,5 до 5. При использовании предлагаемых композиций достигается эффективная и безопасная очистка ротовой полости. 2 н. и 9 з.п. ф-лы, 30 ил., 2 табл., 2 пр.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充