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一种粒子照射装置和粒子治疗系统
- 专利权人:
- 上海艾普强粒子设备有限公司
- 发明人:
- 蒲越虎,马晓颖,张潇,李乾楠
- 申请号：
- CN201510750262.4
- 公开号：
- CN105288871A
- 申请日:
- 2015.11.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种粒子照射装置及治疗系统，用于向肿瘤靶区照射粒子束，包括治疗头和照射控制系统，该治疗头包括波纹管、第一扫描磁铁、第一真空盒、第二扫描磁铁、第二真空盒、束斑尺寸调节器、真空窗束流监测模块，束流监测模块的下游设有可活动连接的脊型过滤器、射程补偿器及准直器等；脊型过滤器具有固定装置和本体以及与照射控制系统连接以在照射实施中带动本体沿其高度或厚度变化方向移动的位置调节装置。照射控制系统控制第一扫描磁铁和第二扫描磁铁将所述粒子束偏转至所述肿瘤靶区的对应位置，控制束流监测模块监测粒子束的剂量和位置信息。本发明使得医生可以根据临床需要，在同一装置上既可进行二维也可进行三维照射治疗。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
