一种散尾葵的栽培基质及其栽培方法
- 专利权人:
- 寸国强
- 发明人:
- 寸国强
- 申请号：
- CN201711319545.9
- 公开号：
- CN107873463A
- 申请日:
- 2017.12.12
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 赵宇`刘东
- 摘要：
- 本发明公开一种散尾葵的栽培基质及其栽培方法，按重量份数计，所述栽培基质包括以下组分：木屑20～30份，黄壤土20～30份，蛭石10～20份，椰糠10～15份，牛粪10～30份，草木灰10～20份，沼渣5～10份。所述栽培基质能够提高散尾葵的品质，以及达到提高散尾葵抗病防虫的能力，操作简单，生产成本低，栽培效果好，有利于实现规模化生产和应用，适于普遍推广。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
