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用于手术后抗感染的复合静电纺丝纳米纤维膜疝修补片及其制备方法
专利权人:
中国科学院化学研究所
发明人:
郑建芬,王伟红,韩志超
申请号:
CN201310116406.1
公开号:
CN104096272A
申请日:
2013.04.03
申请国别(地区):
CN
年份:
2014
代理人:
摘要:
本发明涉及用于临床手术后抗感染的复合静电纺丝纳米纤维膜疝修补片及其制备方法。本发明的疝修补片包括由静电纺丝法制备得到的聚合物纳米纤维膜基片,及与所述聚合物纳米纤维膜基片相连接的由静电纺丝法制备得到的负载有抗感染药物的可生物降解的高分子纳米纤维功能膜。所述聚合物纳米纤维膜基片柔软且力学性能好,不会引起内脏器官的损伤,并使内脏器官可以固定在术后恢复位置;所述负载有抗感染药物的静电纺丝纳米纤维功能膜具有适宜的降解速度,随着材料的降解,抗感染药物逐渐释放,可以有效的防止术后感染及伤口污染所引起的炎症。本发明的疝修补片在植入人体后,在修补疝的同时,可以有效降低术后的感染引起的炎症反应,降低患者的痛苦。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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