Hyaluronic acid or its derivative-supported thin film and thin film cosmetics

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专利权人:

株式会社;ナノシータ株式会社;資生堂;株式会社 資生堂

发明人:

阿部 公司,八巻 悟史,武岡 永里子,木村 朋子,國澤 直美,武岡 真司,藤枝 俊宣,下野 浩貴,齋藤 晃広

申请号：

JP2013520584

公开号：

JPWO2012173198A1

申请日:

2012.06.14

申请国别(地区):

JP

年份:

2015

代理人:

摘要：

The present invention provides a thin film and a thin film cosmetic that are excellent in handleability, moisturizing effect, and unevenness correcting effect. In the thin film according to the present invention, (a) a substrate film supporting hyaluronic acid or a derivative thereof and (b) a support are laminated, and (a) the thickness of the film is 10 to 500 nm. It is characterized by that.本発明は、取り扱い性、保湿効果、凹凸補正効果に優れる薄膜および薄膜化粧料を提供する。本発明にかかる薄膜は、（ａ）ヒアルロン酸またはその誘導体を担持させた基材膜と、（ｂ）支持体と、が積層しており、（ａ）膜の厚さが10～500ｎｍであることを特徴とする。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/