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Hyaluronic acid or its derivative-supported thin film and thin film cosmetics
专利权人:
株式会社;ナノシータ株式会社;資生堂;株式会社 資生堂
发明人:
阿部 公司,八巻 悟史,武岡 永里子,木村 朋子,國澤 直美,武岡 真司,藤枝 俊宣,下野 浩貴,齋藤 晃広
申请号:
JP2013520584
公开号:
JPWO2012173198A1
申请日:
2012.06.14
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention provides a thin film and a thin film cosmetic that are excellent in handleability, moisturizing effect, and unevenness correcting effect. In the thin film according to the present invention, (a) a substrate film supporting hyaluronic acid or a derivative thereof and (b) a support are laminated, and (a) the thickness of the film is 10 to 500 nm. It is characterized by that.本発明は、取り扱い性、保湿効果、凹凸補正効果に優れる薄膜および薄膜化粧料を提供する。本発明にかかる薄膜は、(a)ヒアルロン酸またはその誘導体を担持させた基材膜と、(b)支持体と、が積層しており、(a)膜の厚さが10~500nmであることを特徴とする。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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