Ultrasonic cleaning method using suspended nanoparticles

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专利权人:

エヴァー クリーン アンド クリア テクノロジーズ リミテッド

发明人:

ロッター、シュロモ

申请号：

JP2016563118

公开号：

JP6595501B2

申请日:

2015.04.13

申请国别(地区):

JP

年份:

2019

代理人:

摘要：

A method for reducing level of contaminants from an object, the method comprises introducing the object into an ultrasonic (US) bath carrying an aqueous medium that holds, suspended therein, insoluble nanoparticles and activating said bath to apply US waves onto said object while the object is at least partially submerged within said aqueous medium.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/