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小型流体制御弁の流路構造
- 专利权人:
- ＣＫＤ株式会社
- 发明人:
- 廣瀬 克憲,西田 成伸
- 申请号：
- JP20170510109
- 公开号：
- JPWO2016159088(A1)
- 申请日:
- 2016.03.30
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 小型流体制御弁の流路構造であって、上面視において弁本体（１１）の縦幅は横幅よりも狭くなっており、弁本体（１１）の内部には、弁本体（１１）の下面（１１ａ）で横幅の方向に並んでそれぞれ開口する第１流路（２１）及び第２流路（３１）が形成されており、下面（１１ａ）において、第１流路（２１）の開口（２１ａ）の周囲には環状の第１環状凹部（２２）が形成されており、下面（１１ａ）において、第２流路（３１）の開口（３１ａ）の周囲には環状の第２環状凹部（３２）が形成されており、第１流路（２１）及び第２流路（３１）は、弁室（１２）にそれぞれ接続されており、弁本体（１１）には、横幅の方向の端面（１１ｃ）から弁室（１２）まで貫通する貫通孔（５１）が形成されており、貫通孔（５１）の端面（１１ｃ）での開
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
