具有除草作用的取代的苯并噻唑类化合物

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专利权人:

巴斯福股份公司

发明人:

E·黑斯特拉彻,G·哈穆普里施特,O·门克,P·莎弗,C·萨加,K－O·威斯特法伦,U·密斯里茨,H·瓦尔特

申请号：

CN96196607.6

公开号：

CN1194645A

申请日:

1996.08.26

申请国别(地区):

中国

年份:

1998

代理人:

黄泽雄

摘要：

本发明涉及取代的苯并噻唑和其盐,其中X¹、X²=O或S;R¹=H,NH₂,C₁－C₆烷基或C₁－C₆烷基卤化物;R²=H,卤素,C₁－C₆烷基,C₁－C₆烷基卤化物,C₁－C₆烷硫基,C₁－C₆烷基亚磺酰基或C₁－C₆烷基磺酰基;R³=H,卤素或C₁－C₆烷基;R⁴=H或卤素;R⁵=CN,卤素,C₁－C₆烷基,C₁－C₆烷基卤化物,C₁－C₆烷氧基或C₁－C₆烷氧基卤化物;Y为一个化学键,－O－,－S－,－SO－或－SO₂－;R⁶=H,CN,卤素,C₃－C₆环烷基,C₁－C₆烷基卤化物,C₃－C₆链烯基,C₃－C₆烷基卤化物,C₃－C₆炔基或C₁－C₆烷基,其中所说的环烷基,烷基,链烯基和炔基可被CN,C₁－C₆烷氧基,C₁－C₆烷硫基,C₁－C₆烷氧羰基,C₁－C₆烷基氨基羰基,二(C₁－C₆烷基)氨基羰基,C₁－C₆烷基羰氧基,C₁－C₆烷氧基卤化物,C₁－C₆烷硫基卤化物或C₃－C₆环烷基取代,其条件是,当Y为一个化学键、氧或硫时,R⁶可仅为氰基,且当Y为一个化学键时,R⁶可仅为卤素。本发明还涉及这些物质作为除草剂的应用和作为植物脱水和脱叶剂的应用。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/