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PLASMA SYSTEM
专利权人:
ELECTRONICS AND TELECOMMUNICATIONS RESEARCH INSTITUTE;한국전자통신연구원
发明人:
KIM, YARK YEON,김약연,YU, HAN YOUNG,유한영,JANG, WON ICK,장원익,YOON, YONG SUN,윤용선,LEE, BONG KUK,이봉국,KIM, YARK YEONKR,YU, HAN YOUNGKR,JANG, WON ICKKR,YOON, YONG SUNKR,LEE, BONG KUKKR
申请号:
KR1020140154526
公开号:
KR1020150113805A
申请日:
2014.11.07
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
A plasma system of the present invention according to the present invention includes: a nozzle including an outer circumferential side, which is exposed to the outside, an inner circumferential side, which faces the outer circumferential side and comes in contact with gas, and an outlet for spraying the gas; a first electrode formed on a portion of the outer circumferential side or the inner circumferential side; and a second electrode which is formed on a portion of the outer circumferential side while being separated from the first electrode. The first electrode is electrically connected to a first power supply having a first voltage. The second electrode is electrically connected to a second power supply having a second voltage different from the first voltage. The second electrode is formed on a location closer to the outlet than a location of the first electrode.본 발명에 따른 플라즈마 시스템은, 외부에 노출된 외주면, 상기 외주면과 대향하며 가스와 접촉하는 내주면 및 상기 가스가 분사되는 출구를 포함하는 노즐, 상기 외주면 또는 상기 내주면 중 일부에 형성되는 제1 전극 및 상기 제1 전극과 이격된 상태로 상기 외주면 중 일부에 형성되는 제2 전극을 포함하되, 상기 제1 전극은 제1 전압을 갖는 제1 전원에 전기적으로 연결되고, 상기 제2 전극은 상기 제1 전압과 다른 제2 전압을 갖는 제2 전원에 전기적으로 연결되며, 상기 제2 전극은 상기 제1 전극보다 상기 출구로부터 가까운 위치에 형성된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

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