您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

Verfahren zur Bestrahlungsplanung und Bestrahlungsplanungseinrichtung
专利权人:
Siemens Aktiengesellschaft
发明人:
Alexander Gemmel,Eike Rietzel
申请号:
DE102011007148
公开号:
DE102011007148A1
申请日:
2011.04.11
申请国别(地区):
DE
年份:
2012
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestrahlungsplanung für ein Partikeltherapie-Bestrahlungsverfahren, in der die zu applizierende Dosis entlang mehrerer in Strahlrichtung hintereinander folgenden Isoenergieschichten (13, 15, 17, 17) zu applizieren ist, umfassend folgende Schritte:– Vorgeben eines zu bestrahlenden Zielvolumens (11),– Bestimmen einer ersten Position einer proximalsten Isoenergieschicht (13) in Bezug auf das zu bestrahlende Zielvolumen (11),– Bestimmen einer zweiten Position zumindest einer weiteren Isoenergieschicht (17, 17), die distal zu der proximalsten Isoenergieschicht (13) liegt, in Bezug auf das zu bestrahlende Zielvolumen (11) unter Verwendung der ersten Position.Weiterhin betrifft die Erfindung eine entsprechende Bestrahlungsplanungseinrichtung.The invention relates to a method for planning for a particle therapy - irradiation procedures, in which the dose to be applied in the beam direction along a plurality of successive, iso-energy layers (13, 15, 17, 17 ) is to be applied, comprising the steps of:– Preset a target (11 to be irradiated),– Determining a first position of a most proximal isoenergy layer (13) in relation to the target volume to be irradiated (11),– Determining a second position of at least one further isoenergy layer (17, 17 ), the distal to the proximal-most isoenergy layer (13), in relation to the target volume to be irradiated (11) with the use of the first position.Furthermore, the invention relates to a corresponding irradiation planning a direction.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充