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AEC模式下曝光截止剂量校正方法及装置
专利权人:
上海联影医疗科技有限公司
发明人:
夏晓晶,代蓓
申请号:
CN201510486618.8
公开号:
CN105105776B
申请日:
2015.08.10
申请国别(地区):
CN
年份:
2017
代理人:
摘要:
本发明公开了一种AEC模式下曝光截止剂量校正方法,本方法统计特定年龄区间的待检部位在非AEC模式下的曝光截止剂量并计算曝光截止剂量的均值,在均值满足预设条件时,根据待检者的年龄等信息确定待检者的身体厚度及对应的AEC模式下曝光截止剂量,或者以所述均值作为对应的AEC模式下曝光截止剂量。本发明还公开了一种AEC模式下曝光截止剂量校正装置和X射线摄影系统。本发明的AEC模式下曝光截至剂量的校正方法可以得到更符合实际临床检查的曝光截止剂量,提高检查结果的准确性,使得自动曝光控制更加符合实际成像需求,在最低剂量条件下达到最优图像质量。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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