流体处理系统
- 专利权人:
- 特洁安技术公司
- 发明人:
- 克里斯托弗·布鲁斯·考德威尔,斯科特·托马斯·杜因,朱利安·吉格斯
- 申请号：
- CN201680041515.3
- 公开号：
- CN108136359B
- 申请日:
- 2016.12.07
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开一种流体处理系统,包括:流体处理腔室,包括流体入口、流体出口和流体处理区域;细长辐射源组件,包括被配置为设置在流体处理区域中的细长辐射源;以及灯座元件,固定到所述流体处理腔室的近端侧部分,所述灯座元件配置为仅当所述流体处理腔室是未被流体加压时才从所述细长辐射源组件脱离。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
