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作为痕量胺相关受体(TAAR)的配体的新的2-咪唑类
专利权人:
弗·哈夫曼-拉罗切有限公司
发明人:
G·盖雷,K·格勒布克斯宾登,R·诺克罗斯,H·思塔德尔
申请号:
CN200780045864.3
公开号:
CN101557810B
申请日:
2007.12.03
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明涉及式(I)化合物,其中X-R1是-CH2-并且Y-R2是-CH(低级烷氧基)-、-CH(低级烷基)-、-O-、-S-、-S(O)-、-S(O)2-或-CH2-;或者X-R1是-NH-并且Y-R2是-CH(低级烷基)-或-CH2-;Ar是苯基或萘基,该环任选被一个或两个取代基取代,所述的取代基选自卤素、低级烷氧基、低级烷基或被卤素取代的低级烷基;以及可药用酸加成盐。已经发现式I化合物对痕量胺相关受体(TAAR)、特别是TAAR1具有很好的亲和性。化合物可以用于治疗抑郁症、焦虑症、双相性精神障碍、注意缺陷多动症(ADHD)、应激相关障碍、精神病性精神障碍例如精神分裂症、神经疾病例如帕金森病、神经变性障碍例如阿尔茨海默病、癫痫、偏头痛、高血压、物质滥用和代谢障碍例如进食障碍、糖尿病、糖尿病并发症、肥胖症、血脂异常、能量消耗和同化障碍、体温内环境稳定障碍和功能障碍、睡眠和昼夜节律障碍以及心血管障碍。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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