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肌荒れ予防又は改善剤
专利权人:
POLA CHEMICAL INDUSTRIES INC
发明人:
SHIMANUKI TOMOMASA,島貫 智匡,YOKOYAMA KOJI,横山 浩治
申请号:
JP2011131866
公开号:
JP2013001658A
申请日:
2011.06.14
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new agent for preventing or ameliorating chapped skin and a skin care preparation that comprises a component and prevents or ameliorates chapped skin.SOLUTION: The agent for preventing or ameliorating chapped skin comprises a compound represented by general formula (1) [wherein R1 is an unsubstituted or substituent-containing aromatic group R2 is a hydrogen atom, 1-4C straight-chain or branched alkyl, 1-4C straight-chain or branched alkyl chain-containing acyl R3 is a hydrogen atom, 1-4C straight-chain or branched alkyl], its optical isomer and/or their pharmacologically acceptable salts. The skin care preparation for preventing or ameliorating chapped skin comprises the component.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】新規な肌荒れ予防又は改善剤、並びに、当該成分を含有する肌荒れ予防又は改善用の皮膚外用剤を提供する。【解決手段】下記一般式(1)に表される化合物、その光学異性体及び/又はそれらの薬理学的に許容する塩をよりなる肌荒れ予防又は改善剤、並びに、当該成分を含有する肌荒れ予防又は改善用の皮膚外用剤。(1)[式中、R1は、無置換又は置換基を有する芳香族基を表し、R2は、水素原子、炭素数1~4の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数1~4の直鎖又は分岐のアルキル鎖を有するアシル基を表し、R3は、水素原子、炭素数1~4の直鎖又は分岐のアルキル基を表す。]【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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