用于X射线相衬和/或暗场成像的衍射光栅
- 专利权人:
- 皇家飞利浦有限公司
- 发明人:
- T·克勒
- 申请号：
- CN201880057266.6
- 公开号：
- CN111051863A
- 申请日:
- 2018.24.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种用于X射线相衬和/或暗场成像的光栅。描述了在基板的表面上形成光致抗蚀剂层。使用表示所需光栅结构的掩模利用辐射来照射所述光致抗蚀剂层。对所述光致抗蚀剂层进行蚀刻以去除所述光致抗蚀剂层的部分,从而留下多个沟槽,所述多个沟槽跨基板的表面彼此横向地间隔开。在所述基板的表面上形成多个材料层。每层被形成在沟槽中。材料层包括多种材料,其中,所述多种材料在垂直于所述基板的表面的方向上一个在另一个的顶部上地形成。所述多种材料包括所具有的k边缘吸收能量高于金的k边缘吸收能量的至少一种材料,并且所述多种材料包括金。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
