Oxygen face mask with capnographic monitoring port

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专利权人:

マスク;モニター マスク インク.;モニター;インク．

发明人:

ビアード、ジョン ダブリュー．,ビアード、ジョン ダブリュー.

申请号：

JP2014529915

公开号：

JP2014525341A

申请日:

2012.09.07

申请国别(地区):

JP

年份:

2014

代理人:

摘要：

An oxygen face mask to cover a user's nose and at least partially cover a user's mouth with lateral sampling ports； systems including such a face mask； and methods of using such a face mask.側方サンプリングポートを有する、ユーザーの鼻を覆うとともにユーザーの口を少なくとも部分的に覆う酸素フェイスマスク、そのようなフェイスマスクを含むシステム、及びそのようなフェイスマスクを使用する方法。【選択図】図１

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/