An electrode sensor and a method of manufacturing the same are provided. According to embodiments, an electrode sensor manufacturing method includes preparing a substrate having a first region and a second region； Forming a first electrode on the substrate, the first electrode in direct physical contact with the top surface of the first region of the substrate； Performing a plasma treatment process on the substrate and the first electrode； Forming a passivation layer covering the substrate and the first electrode； And performing an exposure process and a development process on the passivation layer to form an opening in the passivation layer, wherein the exposure process includes chemical bonding between the top surface of the second region of the substrate and the passivation layer. It may include.전극 센서 및 그 제조 방법이 제공된다. 실시예들에 따르면, 전극 센서 제조방법은 제1 영역 및 제2 영역을 갖는 기판을 준비하는 것； 상기 기판 상에 제1 전극을 형성하는 것, 상기 제1 전극은 상기 기판의 상기 제1 영역 상면과 직접 물리적으로 접촉하고； 상기 기판 및 상기 제1 전극 상에 플라즈마 처리 공정을 수행하는 것； 상기 기판 및 상기 제1 전극을 덮는 패시베이션층을 형성하는 것； 및 상기 패시베이션층 상에 노광 공정 및 현상 공정을 수행하여, 상기 패시베이션층 내에 오프닝을 형성하는 것을 포함하되, 상기 노광 공정은 상기 기판의 상기 제2 영역의 상면 및 상기 패시베이션층 사이에 화학 결합이 형성하는 것을 포함할 수 있다.
