PROBLEM TO BE SOLVED: To detect OH radicals in a gaseous phase.SOLUTION: An OH radical processing device 100 includes: a chamber 110； a decompression pump 120 connected to the chamber 110； a controller (central controller 160) for reducing the inside of the chamber 110 to a first pressure lower than an atmospheric pressure； a radical supply part 130 for supplying OH radicals, or a precursor of the OH radicals into the chamber 110； and a switching part 200 for forming a contact state in which, after the inside of the chamber 110 becomes a second pressure higher than the first pressure, an OH radical detection probe 102 having aromatic carboxylic acid, polar aprotic organic solvent, and a polar protonic organic solvent is brought into contact with gas inside the chamber 110.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2020,JPO&INPIT【課題】気相中のＯＨラジカルを検出する。【解決手段】ＯＨラジカル処理装置１００は、チャンバ１１０と、チャンバ１１０に接続された減圧ポンプ１２０と、チャンバ１１０内を大気圧未満の第１圧力に減圧する制御部（中央制御部１６０）と、ＯＨラジカル、または、ＯＨラジカルの前駆体を、チャンバ１１０内に供給するラジカル供給部１３０と、チャンバ１１０内が第１圧力より高圧の第２圧力以上になった後に、芳香族カルボン酸、極性非プロトン性有機溶媒、および、極性プロトン性有機溶媒を有するＯＨラジカル検出プローブ１０２を、チャンバ１１０内のガスに接触させる接触状態とする切換部２００と、を備える。【選択図】図１
