基于几何背景网格并考虑拔模制造约束的拓扑优化设计方法
- 专利权人:
- 西北工业大学
- 发明人:
- 谷小军,朱继宏,高欢欢,张卫红,李军朔
- 申请号：
- CN201210071062.2
- 公开号：
- CN102663163B
- 申请日:
- 2012.03.17
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 王鲜凯
- 摘要：
- 本发明公开了一种基于几何背景网格并考虑拔模制造约束的拓扑优化设计方法，用于解决在不规则网格模型的拓扑优化设计中引入拔模制造约束的技术问题。技术方案是采用几何背景网格的方法，将有限元网格质心沿着拔模分模/型面映射到几何背景网格上，约束质心处于同一几何背景网格的有限元单元的伪密度沿着分模/型面方向依次减小。有效的克服了自由网格划分的有限元模型不能应用拔模约束的问题。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
