一种利用自回归模型计算磁共振图像表观弥散系数的方法

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专利权人:

上海理工大学

发明人:

王丽嘉,裴孟超,董芳,李建奇,聂生东,王远军

申请号：

CN201410361347.9

公开号：

CN104095635A

申请日:

2014.07.28

申请国别(地区):

CN

年份:

2014

代理人:

摘要：

本发明涉及一种利用自回归模型计算磁共振图像表观弥散系数的方法，利用自回归模型计算生成ADC磁共振图像。利用多个且等间隔b值DWI序列可采集得到多幅不同b值的磁共振图像，对采集得到的所有像素的磁共振信号进行线性积分，即：利用Simpson数值积分法则对信号点做关于b值的多段等间隔积分，再建立自回归模型，最后对自回归模型参数进行最大似然估计得到ADC。是一种更加精确快速的计算E指数衰减系数的算法，该算法可以用于磁共振成像技术中快速精确计算ADC图像。本发明能够显著ADC磁共振图像计算效率和精确性，适用于放射科临床上各种相关疾病的诊断和研究。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/