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非侵入性物质分析
- 专利权人:
- 迪亚蒙泰克股份有限公司
- 发明人:
- 维尔纳·曼特勒,米古勒·安吉尔·普雷特兹拉斐尔,托拜厄斯·利布莱恩,奥托·赫茨伯格,亚力山大·鲍尔,赫尔曼·冯利利恩菲尔德-托尔,阿恩·库德勒,塔贝亚·普富尔
- 申请号：
- CN202010757841.2
- 公开号：
- CN111803037A
- 申请日:
- 2015.06.16
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种用于分析物质(100)的方法和系统。所述方法包括以下步骤：将光学介质(10)布置在物质表面上，使得所述光学介质(10)的表面(12)的至少一个区域与所述物质表面接触；发射具有激发波长的激发光束，其通过与所述物质表面相接触的所述光学介质(10)的表面(12)的区域到所述物质表面；发射测量光束，其通过所述光学介质(10)到与所述物质表面直接接触的所述光学介质(10)的表面(12)的区域，使得所述测量光束和所述激发光束在所述光学介质(10)和物质表面的界面上重叠，在所述界面处所述测量光束被反射；根据所述激发光束的波长直接或间接地检测反射的测量光束的偏转；以及基于所检测的所述测量光束的偏转，根据所述激发光束的波长来分析所述物质(100)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
