表面処理を通じた金属ナノワイヤー基盤透明導電性膜のパターニング方法
- 专利权人:
- ドンジン セミケム カンパニー リミテッド
- 发明人:
- リー ビョンウォク,リー スンヒュン,キム キュンウン,キム ミョンチン,ソ ドンミン,キム ソンバエ
- 申请号：
- JP20160541601
- 公开号：
- JP2017514264(A)
- 申请日:
- 2014.12.29
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明は、表面処理を通じた金属ナノワイヤー基盤透明導電性膜のパターニング方法に関するものであって、より詳しくは、パターニング工程前に光学機能層を追加して屈折率を調節し、表面処理剤組成物を用いて金属ナノワイヤー透明導電性膜の表面を酸化させるか塩化合物を生成させて色を変化させることによって表面を絶縁させ、視認性に優れた膜をパターニングする方法に関するものである。【選択図】図1
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
