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一种土豆地膜覆盖垄上微沟穴播的栽培方法
专利权人:
李本花
发明人:
李本花
申请号:
CN201810504782.0
公开号:
CN108925387A
申请日:
2018.05.24
申请国别(地区):
中国
年份:
2018
代理人:
余成俊
摘要:
本发明公开了一种土豆地膜覆盖垄上微沟穴播的栽培方法,本发明栽培方法改传统的弓型垄面为凹型垄面,即在大垄中间开微沟,将大垄面分成2个对等的小垄面,解决了降雨资源的有效集纳和高效利用,同时改侧播为垄脊穴播,增加了耕作层熟土厚度和薯块生长空间,提高了产量和商品薯率;在土豆播种时使用土豆点播器进行土豆的点播,这种点播方法可有效减轻对地膜的人为损伤,保持膜面干净,提高工作效率;本发明方法集蓄水增温于一体,增产增收效果显著,技术流程简单,方便实施推广,进一步提高了土豆的质量与产量。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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