呋喃并苯并吡喃衍生物、它们的制备方法及含这些化合物作为活性组分的除草剂
- 专利权人:
- 三井东压化学株式会社
- 发明人:
- 新井清司,小泉文明,岩崎泰永,大冈真行,江田贞文,金元祥郎
- 申请号：
- CN93107581.5
- 公开号：
- CN1036198C
- 申请日:
- 1993.05.28
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 1997
- 代理人:
- 魏金玺
- 摘要：
- 通式(I)的呋喃并苯并吡喃衍生物：其中R1是低级烷基，R2是低级烷基、低级烷氧基、卤素原子或卤素原子取代的低级烷基，R3是低级烷基、低级烷氧基、卤素原子、卤素原子取代的低级烷基、苯氧基或苄氧基，R4是氢原子或低级烷基，m和n是0-4的任何整数，该化合物对杂草具有极好的除草活性，并且对作物，例如稻谷、大豆和棉花是完全选择的。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
