高纯度喹啉衍生物及其生产方法

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专利权人:

卫材R&D管理有限公司

发明人:

中村太树,阿部太一,宫下祐辅,黑田弘文,绫田雄辅,赤尾淳史

申请号：

CN201580042365.3

公开号：

CN106660964A

申请日:

2015.08.26

申请国别(地区):

CN

年份:

2017

代理人:

摘要：

提供了由化学式(IV)所表示的化合物或其盐，其中由化学式(I)所表示的化合物的含量按质量计为350ppm或更少。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/