Discloses a base station for recharging the battery passively within the implant without patient intervention. The base station may comprise a device configured under the bed, to be placed in a fixed location, such as next to the wall or walls to be hand-held or can. The base station is able to generate the (B field and E-field) and magnetic field coupled to the receiver coil and the antenna of the implant, causing a charging current to charge the battery of the implant. Requires no manipulation or handling of any part of the patient, implant battery is charged passively whenever you are in range of one of the electric charge field or magnetic charging field patient occurs by the base station. The charge that occurs when in the position of a relatively short distance from the base station IPG, using E-field contrast, charged with a B field, generated at the longer distances. Reverse telemetry from the implant may be because of the ability to transfer a high amount of power by the implant, and notifies any preferred one of the E-field charging or B field charging and are shown where possible. [Selection Figure 7患者の介入なしにインプラント内のバッテリを受動的に再充電するための基地局を開示する。基地局は、手持ち式とすることができ、又はベッドの下、壁面又は壁の隣のような固定場所に配置されるように構成された機器を含むことができる。基地局は、インプラント内のアンテナ及び受信コイルと結合され、インプラントのバッテリを充電するための充電電流を発生させる電場及び磁場(E場及びB場)を発生させることができる。患者側のいずれの取り扱い又は操作も必要なく、インプラントバッテリは、患者が基地局によって発生する磁気充電場又は電気充電場のいずれかの範囲にいる時に常に受動的に充電される。B場を用いた充電は、IPGが基地局から比較的短い距離の位置にある場合に発生し、それに対してE場を用いた充電は、より長い距離の位置で発生する。インプラントからの逆方向テレメトリは、インプラントにより高い電力量を転送する機能の理由から、可能な場合にB場充電又はE場充電のいずれが示されてかつ好ましいかを通知することができる。【選択図】図7
