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微分相位对比成像系统的校准
专利权人:
皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人:
G·福格特米尔,K·J·恩格尔,D·格勒,T·克勒,E·勒斯尔
申请号:
CN201080055691.5
公开号:
CN102651994A
申请日:
2010.12.08
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明涉及X射线成像系统和用于对对象进行微分相位对比成像的方法。为了改进微分相位对比成像系统的校准和光栅的对准,提供一种X射线成像系统,包括提供至少部分相干的X射线辐射的X射线发射装置和包括全部沿着光轴设置的相位偏移衍射光栅、相位分析器光栅和X射线图像检测器的X射线检测装置。为了步进,光栅和/或X射线发射装置提供有相对于光轴彼此相对设置的至少两个致动器。为了校准,在无对象的情况下获取校准投射,其中所发射的X射线辐射或一个光栅以校准移位值逐步移位。为了检查,在有对象的情况下获得测量投射,其中所发射的X射线辐射或一个光栅以测量逐步移位,通过将测量投射与校准投射配准,将校准投射关联到每个测量投射。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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