您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

COMPOSITION FOR EXTERNAL APPLICATION TO SKIN
专利权人:
ロート製薬株式会社;ROHTO PHARMACEUT CO LTD
发明人:
FUJITA YUKIE,藤田 幸恵,TAKEMOTO EMI,武本 映美
申请号:
JP2013267325
公开号:
JP2015124148A
申请日:
2013.12.25
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for external application to skin which contains an acidic polysaccharide and a salt-resistant polymer, where makeup unevenness does not arise when a cosmetic material is re-applied after having been applied.SOLUTION: The composition for external application to skin contains (A) a salt-resistant polymer, (B) an acidic polysaccharide, and (C) an amphipathic compound represented by the general formula (1): Z-[O-{(EO)(PO)}-(AO)-H], where n, a, b, and c represent specific numbers and Z, EO, PO and AO represent specific groups.【課題】耐塩性高分子及び酸性多糖類を含む皮膚外用組成物において、適用した後に化粧料を重ねて塗布した場合にメイクよれを生じない皮膚外用組成物を提供すること。【解決手段】(A)耐塩性高分子と、(B)酸性多糖類と、(C)下記一般式(1)で表される両親媒性化合物とを含む皮膚外用組成物:Z―〔O―{(EO)a(PO)b}―(AO)c―H〕n (1)(式中、n、a,b及びcは特定の数を表し、Z、EO、PO及びAOは特定の基を表す。)。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充