Provided is a cleaning processing device that is for a biological implant and that is capable of quickly eliminating ozone generated by ultraviolet-ray radiation after completion of ultraviolet-ray radiation towards the biological implant. The cleaning processing device for a biological implant performs cleaning processing of the biological implant by means of radiating ultraviolet rays at the surface of the biological implant and by causing ozone to contact the surface of the biological implant, and the cleaning processing device is characterized by being provided with a housing, an ultraviolet-ray radiating lamp that is disposed within the housing and that radiates ultraviolet rays at the biological implant, an ozone-removing filter disposed within the housing, and a fan that introduces the ambient gas within the housing to the ozone-removing filter, and is further characterized by the fan being driven in response to the end of cleaning processing of the biological implant.생체 임플란트에 대한 자외선 조사가 종료한 후, 당해 자외선 조사에 의해 발생한 오존을 신속하게 제거할 수 있는 생체 임플란트용 세정 처리 장치를 제공한다. 생체 임플란트의 표면에 자외선을 조사함과 더불어 오존을 접촉시킴으로써, 당해 생체 임플란트를 세정 처리하는 생체 임플란트용 세정 처리 장치로서, 하우징과, 이 하우징 내에 배치된, 생체 임플란트에 자외선을 조사하는 자외선 방사 램프와, 상기 하우징 내에 배치된 오존 제거 필터와, 상기 하우징 내의 분위기 가스를 상기 오존 제거 필터에 도입하는 팬을 구비하여 이루어지고, 상기 팬은, 상기 생체 임플란트의 세정 처리의 종료에 따라서 구동되는 것을 특징으로 한다.
