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一种高密度RGD肽修饰材料的制备方法及应用
专利权人:
西北大学
发明人:
赵新锋,郑晓晖,于洁,王世祥,李倩
申请号:
CN201510175638.3
公开号:
CN104789547B
申请日:
2015.04.13
申请国别(地区):
CN
年份:
2018
代理人:
摘要:
本发明公开了一种高密度RGD肽修饰材料的制备方法及应用,将表面带活性基团修饰的材料分散于甲苯中,加入催化量的4‑二甲氨基吡啶,冰浴下缓慢滴加入三乙胺及2‑溴异丁酰溴制得引发剂。向产物中加入溴化亚铜,2‑2联吡啶和聚乙二醇甲基丙烯酸酯得大分子聚合物。向反应物中加入活化试剂和4‑二甲氨基吡啶的二甲基甲酰胺溶液中,得活化的聚合物刷,加入RGD肽在室温条件在避光反应18小时。将细胞移入至含RGD肽修饰的聚合物刷中,以磷酸盐缓冲液为悬浮液,4℃下在摇床上反应20分钟,即得到高密度RGD肽修饰材料。该方法反应条件温和,步骤简便易行,实现了将细胞高浓度、高密度地固定在固体材料表面的目的。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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