多西紫杉醇高分子衍生物、及其制造方法及其用途
- 专利权人:
- 那野伽利阿株式会社
- 发明人:
- 原田充训,斋藤宏之,加藤泰己
- 申请号：
- CN200980118842.4
- 公开号：
- CN102037058B
- 申请日:
- 2009.05.20
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供多西紫杉醇高分子衍生物的制造方法，所述多西紫杉醇高分子衍生物是在含有聚乙二醇和聚天冬氨酸的嵌段共聚物的天冬氨酸侧链的羧基上酯结合多西紫杉醇具有的任一个或多个羟基而成的，其中，通过调整相对于嵌段共聚物的多西紫杉醇的结合比例及/或结合数，来调整从得到的多西紫杉醇高分子衍生物中的多西紫杉醇的释放速度。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
